LithoYield™
Núcleo de Investigación en Gobernanza de Fase
Alojado en el ecosistema de investigación de SINTESYS.
LithoYield™ investiga cómo la coherencia de proceso puede ser interpretada y regulada en entornos de fabricación de escala ultrarreducida donde la variabilidad estocástica se vuelve estructuralmente significativa.
LithoYield™ investigates how process coherence can be interpreted and regulated in ultra‑scaled manufacturing environments where stochastic variability becomes structurally significant.
LithoYield™ puede entenderse como un marco conceptual y técnico para examinar cómo los sistemas de fabricación organizan la información bajo restricciones de escala extrema.
LithoYield™ can be understood as a conceptual and technical framework for examining how manufacturing systems organize information under extreme scaling constraints.
↑ Coherencia de fase upstream
en regímenes de proceso litográfico — investigando dinámicas de optimización previas a la divergencia estocástica.
⟐ Marcos interpretativos
para estructuras de rendimiento estocástico, examinando la variabilidad como información estructurada más que como ruido puro.
⚙ Gobernanza de complejidad
en entornos de fabricación de escala ultrarreducida, mediante gobernanza de optimización estructurada por fases.
◼ Estado de la investigación
LithoYield™ se encuentra actualmente en desarrollo conceptual y experimental avanzado.
Se espera la continuación de la maduración de la investigación con apoyo computacional e institucional colaborativo.
LithoYield™ is currently in advanced conceptual and experimental development.
Continued research maturation is expected under collaborative computational and institutional support.
“El objetivo de LithoYield™ no es crear un producto por sí mismo, sino contribuir a la gramática científica a través de la cual se interpretará la complejidad futura de la fabricación.”
“The objective of LithoYield™ is not to create a product alone, but to contribute to the scientific grammar through which future manufacturing complexity will be interpreted.”
Comportamiento de convergencia bajo variación estocástica
Modelo de indicador de investigación para estabilidad de convergencia, validado mediante trayectorias estocásticas de conjunto en infraestructura GPU distribuida.
Research indicator model for convergence stability, validated via ensemble stochastic trajectories on distributed GPU infrastructure.
*Mejora de convergencia observada en entornos experimentales controlados.
Gradientes de sensibilidad bajo examen: d(LER)/d(dosis), d(CD)/d(foco)
Marco de integración (complementario)
LithoYield™ no está diseñado como un punto de referencia competitivo frente a las herramientas de optimización de fabricación existentes, sino como un marco de investigación complementario.
LithoYield™ is not designed as a competitive benchmark against existing manufacturing optimization tools but as a complementary research framework.
| Capa del pipeline | Interacción de investigación |
|---|---|
| SMO / ILT Solver | Capa de programación gobernada por fase (supervisora) |
| Motor OPC | Interfaz de observación externa |
| Modelos Maxwell / Resist | Intocados (compatible con caja negra) |
| Programador HPC | Orquestación estocástica paralela |
| Cadena de herramientas Fab | Sin interacción directa con hardware |
No se requiere modificación del escáner ni recalificación del hardware.
Límite de alcance: Esta investigación aborda la estabilización de convergencia para litografía inversa.
No es una afirmación de rendimiento de oblea, simulación de física de escáner o reemplazo de química de resist.
Los esquemas de discretización específicos y los parámetros de control de coherencia de fase están disponibles bajo divulgación técnica restringida (NDA).
Scope boundary: This research addresses convergence stabilization for inverse lithography.
This is not a wafer‑yield claim, scanner physics simulation, or resist chemistry replacement.
Specific operator discretization schemes and phase‑coherence control parameters are available under restricted technical disclosure (NDA).
Marco de colaboración
Validado en arquitectura de clase GPU distribuida. Divulgación técnica disponible bajo NDA.
“LithoYield™ es una indagación sobre lo que los sistemas de fabricación podrían llegar a ser cuando la complejidad misma se trata como un sustrato gobernable.”
“LithoYield™ is an inquiry into what manufacturing systems might become when complexity itself is treated as a governable substrate.”
Las características técnicas y condiciones de implementación están sujetas a validación colaborativa.